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硅片薄膜厚度仪

简要描述:硅片薄膜厚度仪的工作原理主要分为接触式测量和非接触式测量两种,每种方式都有其独特的技术特点和适用场景 。

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  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2026-08-03
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硅片薄膜厚度仪

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接触式测量原理

接触式测量是较为传统的测量方式,它主要通过机械探头直接与被测硅片薄膜表面进行接触 。当探头接触到薄膜时,会受到一定的阻力,仪器内部的压力传感器或位移传感器会将这种阻力转化为电信号,进而通过一系列复杂的算法和换算,得出薄膜的厚度数值 。就好比我们用尺子去测量物体的长度,尺子与物体直接接触获取数据。这种测量方式的优点在于测量精度相对较高,而且设备成本相对较低,操作也比较简单,在一些对样品无损要求不高的场景中应用广泛 。

不过,接触式测量也存在一些明显的缺点。由于探头与薄膜直接接触,可能会对薄膜表面造成一定程度的损伤,尤其是对于那些非常薄或者质地脆弱的薄膜,这种损伤可能会影响到薄膜的性能和后续的工艺处理 。而且,接触式测量的速度相对较慢,难以满足现代半导体制造中对于高速、大规模测量的需求 。

非接触式测量原理

随着半导体技术的发展,对硅片薄膜厚度测量的无损性和高效性要求越来越高,非接触式测量原理应运而生 。非接触式测量主要利用光学原理,其中激光干涉法是目前应用较为广泛的一种技术 。当一束激光照射到硅片薄膜表面时,一部分光线会在薄膜的上表面反射,另一部分光线则会穿透薄膜,在薄膜与硅片基体的界面处反射 。这两束反射光会发生干涉现象,形成干涉条纹 。通过对干涉条纹的分析,比如条纹的间距、数量和形状等信息,就可以精确计算出薄膜的厚度 。

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